- Liittynyt
- 14.10.2016
- Viestejä
- 22 630
Samsung Advanced Institute of Technology on julkistanut yhteistyssä Ulsan National Institute of Science and Technologyn ja Cambridgen yliopiston kanssa uuden amorfisen boori nitridin, uuden 2D-materiaalin. Sen kerrotaan olevan erittäin tehokas sähköisten häiriöiden minimoinnissa ja soveltuvan käytettäväksi yhdessä grafeenin kanssa tulevaisuuden piisiruissa. Aine keksittiin ilmeisesti vahingossa tutkijoiden työskennellessä valkoisen grafeenin parissa.
Lähteet:
Lähteet:
Samsung Leads Semiconductor Paradigm Shift with New Material Discovery
Researchers at the Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT) have unveiled the discovery of a new material, called amorphous boron nitride (a-BN), in
news.samsung.com
Ultralow-dielectric-constant amorphous boron nitride - Nature
Thin films of amorphous boron nitride are mechanically and electrically robust, prevent diffusion of metal atoms into semiconductors and have ultralow dielectric constants that exceed current recommendations for high-performance electronics.
www.nature.com