- Liittynyt
- 14.10.2016
- Viestejä
- 24 462
Samsung Advanced Institute of Technology on julkaissut Naturessa paperin ferrosähköisestä transistorista (FeFET), Ferroelectric Field-Effect Transistor) matalavirtaisiin NAND Flash -muisteihin.
Paperin mukaan FeFETit voivat tallentaa jopa 5 bittiä per dataa ja tukevat monikerroksisia rakenteita vähintään samalla tasolla kuin nykyisin käytössä olevat teknologiat. Paperin mukaan transistoreilla saavutettaisiin 286-kerroksisessa rakenteessa 94 % ja 1024-kerroksisessa jopa 96 % pienempi tehonkulutus sekä luku- että kirjoitusoperaatioissa, kuin nykyteknologioilla.
Lähde: https://www.tomshardware.com/tech-i...and-design-based-on-ferroelectric-transistors
Paperin mukaan FeFETit voivat tallentaa jopa 5 bittiä per dataa ja tukevat monikerroksisia rakenteita vähintään samalla tasolla kuin nykyisin käytössä olevat teknologiat. Paperin mukaan transistoreilla saavutettaisiin 286-kerroksisessa rakenteessa 94 % ja 1024-kerroksisessa jopa 96 % pienempi tehonkulutus sekä luku- että kirjoitusoperaatioissa, kuin nykyteknologioilla.
Lähde: https://www.tomshardware.com/tech-i...and-design-based-on-ferroelectric-transistors