- Liittynyt
- 14.10.2016
- Viestejä
- 22 921
Samsung Advanced Institute of Technology on julkistanut yhteistyssä Ulsan National Institute of Science and Technologyn ja Cambridgen yliopiston kanssa uuden amorfisen boori nitridin, uuden 2D-materiaalin. Sen kerrotaan olevan erittäin tehokas sähköisten häiriöiden minimoinnissa ja soveltuvan käytettäväksi yhdessä grafeenin kanssa tulevaisuuden piisiruissa. Aine keksittiin ilmeisesti vahingossa tutkijoiden työskennellessä valkoisen grafeenin parissa.
Lähteet:
news.samsung.com
www.nature.com
Lähteet:
![news.samsung.com](https://img.global.news.samsung.com/global/wp-content/uploads/2020/07/Ultrathin-Boron-Nitride-Films-Paper-in-Nature_thumb728.jpg)
Samsung Leads Semiconductor Paradigm Shift with New Material Discovery
Researchers at the Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT) have unveiled the discovery of a new material, called amorphous boron nitride (a-BN), in
![www.nature.com](https://media.springernature.com/m685/springer-static/image/art%3A10.1038%2Fs41586-020-2375-9/MediaObjects/41586_2020_2375_Fig1_HTML.png)
Ultralow-dielectric-constant amorphous boron nitride - Nature
Thin films of amorphous boron nitride are mechanically and electrically robust, prevent diffusion of metal atoms into semiconductors and have ultralow dielectric constants that exceed current recommendations for high-performance electronics.
![www.nature.com](https://www.nature.com/static/images/favicons/nature/favicon-48x48-b52890008c.png)