- Liittynyt
- 22.10.2016
- Viestejä
- 11 127
Ennen juu, mutta ei enää yli 10 vuoteen. Ja noilla vanhoillakin tuo ilmoitettu luku oli puolet kahden johdon välistä - mikään ei kuitenkaan takaa että se johto ja niiden välissä ollut tyhjä tila on ollut tasan yhtä leveitä, joten silloinkaan se ei ole ollut kirjaimellisesti tarkkaan ottaen viivaleveys, vaikka se on hyvin vahvasti korreloinut sen kanssa.Eikö ne valmistusprosessit kuitenkin ennen nimetty mitattavissa olevien asioiden mukaan? Ei siis suoraan viivanleveyden mukaan vaan myös muiden mittojen?
Ja tosiaan tällä yli 10 vuoden takaisella melko korrektilla "puoli johtoväliä"-mitalla Intelin "10nm ja Samsungin "7nm" ja "5nm" on 18nm, TSMCn "7nm" on 20nm, Samsungin "8nm" on 22nm, Intelin "14nm" on 26nm. Ero Intelin "14nm" ja TSMCn "7nm" välillä on siis tässä vain 1.3x.
Viimeksi muokattu: