GlobalFoundriesin 7 nanometrin LP-prosessista kolme sukupolvea, EUV mukana suunnitelmissa

[Kaotik]

Uutisoimme aiemmin GlobalFoundriesin kertoneen yhtiön 7 nanometrin valmistusprosessin olevan aikataulussa ja sen riskituotannon alkavan jo ensi vuoden ensimmäisellä puoliskolla. Yhtiön suunnitelmien mukaan se tulee julkaisemaan yhteensä kolme sukupolvea 7 nanometrin Leading Performance- eli 7LP-prosessista.

Ensi vuonna käyttöön otettava 7LP-prosessi käyttää perinteista DUV- eli Deep UltraViolet -litografiaa. Sen on tarkoitus olla perinteinen uusi prosessi, joka parantaa prosessilla valmistettavien piirien suorituskykyä, vähentää tehontarvetta ja nostaa transistoritiheyden aiempaa korkeammaksi. Tämän hetkisten suunnitelmien mukaan prosessi tulee tarjoamaan yli 40 % parempaa suorituskykyä kuin 14LPP-prosessi samalla tehonkulutuksella tai vaihtoehtoisesti yli 60 % pienempää tehonkulutusta samalla suorituskyvyllä. Prosessi tulee mahdollistamaan yli 17 miljoonaa hilaa neliömilliä kohden ja maksimissaan 700 mm^2:n kokoiset piirit.

GlobalFoundriesin suunnitelmien mukaan se tulee päivittämään 7LP-prosessin käyttämään DUV-litografian lisäksi EUV- eli Extreme UltraViolet-litografiaa. EUV-litografiassa käytettävän valon aallonpituus on vaivaiset 13,5 nanometriä verrattuna 7LP:ssä käyettävän DUV-litografian 193 nanometrin aallonpituuteen. Aluksi EUV:ta on tarkoitus hyödyntää saantojen parantamiseen ja prosessin vaiheiden yksinkertaistamiseen. Päivitetyn prosessin ei odoteta tarjoavan tässä vaiheessa parannuksia piirien tehontarpeisiin, suorituskykyyn tai kokoon.

Mikäli kaikki menee suunnitelmien mukaan, tulee GloFo päivittämään 7LP-prosessia vielä toiseenkin kertaan kehittyneemmällä EUV-litografialla. Nimellisesti kolmannen sukupolven 7LP-prosessin odotetaan parantavan piirien suorituskykyä, pienentävän tehonkulutusta ja nostavan transistoritiheyttä, mutta GlobalFoundries ei lähde tässä vaiheessa arvioimaan kuinka suurista parannuksista on kyse.

GlobalFoundries ei ole valmis asettamaan vielä tarkkoja aikatauluja 7LP EUV -prosessien käyttöönotolle, mutta optimitilanteessa ensimmäisen sukupolven EUV otetaan käyttöön 2019 ja toisen sukupolven 2020. EUV-litografian käyttöönotossa on vielä useita selvitettäviä ongelmia, kuten käytettävien maskien kestävyys.

Lähde: AnandTech

Huom! Foorumiviestistä saattaa puuttua kuvagalleria tai upotettu video.

Linkki alkuperäiseen uutiseen (io-tech.fi)

 

[lein]

Tämän hetkisten suunnitelmien mukaan prosessi tulee tarjoamaan yli 40 % parempaa suorituskykyä kuin 14LPP-prosessi laskien samalla piirien tehontarvetta yli 60 prosentilla.

Spoileri: tai no tarve eikä kulutus

Eiköhän tuo ole joko tai.

 

[zxcv]

Tämän hetkisten suunnitelmien mukaan prosessi tulee tarjoamaan yli 40 % parempaa suorituskykyä kuin 14LPP-prosessi laskien samalla piirien tehontarvetta yli 60 prosentilla.

Spoileri: tai no tarve eikä kulutus

Eiköhän tuo ole joko tai.

Ei kestä montaa sekunttia lukea alkuperäinen artikkeli...eli uutinen ihan oikeassa.

"The company’s 7 nm fabrication process is projected to bring over a 40% frequency potential over the 14LPP manufacturing technology that GlobalFoundries uses today, assuming the same transistor count and power. The tech will also reduce the power consumption of ICs by 60% at the same frequency and complexity."

 

[Kaotik]

Ei kestä montaa sekunttia lukea alkuperäinen artikkeli...eli uutinen ihan oikeassa.

"The company’s 7 nm fabrication process is projected to bring over a 40% frequency potential over the 14LPP manufacturing technology that GlobalFoundries uses today, assuming the same transistor count and power. The tech will also reduce the power consumption of ICs by 60% at the same frequency and complexity."

Ei, vaan väärässä. Eli joko tai.
edit: Tuossa lainauksessasikin todetaan juuri niin:
40 % korkeammat kellot samalla tehonkulutuksella kuin 14LPP
tai
60 % pienempi tehonkulutus samoilla kelloilla kuin 14LPP

 

[IcePen]

Lue Lisa Su ja Raja Kudori soittavat päivittäin GF:n pomolle ja vaativat häntä laittamaan puljunsa kuntoon ;-)

Jos nuo dian väitteet pätee siihen ensimmäisen sukupolven 7LP prosessiin (joka ei vielä käytä EUV:ia) ja jos se on tuotantokäytössä 2018 niin kuin väitetään, AMD:lta tulee melkoisia prosesoreja ja GPU:ita hätistelemään Inteliä ja Nvidia ensivuonna.

Meinaan jos Ryzen tulisi vähintään 20% korkeammilla kelloilla ts 4,8 Ghz (max kellotus)